在扩散过程中，硅片的周边也形成了扩散层。这种扩散层可能使电池的上、下电极形成局部短路，从而使太阳能电池板的并联电阻下降，影响太阳能电池板的转换效率，所以必须消除周边的扩散层。

　　去边的方法早有腐蚀法和挤压法。腐蚀法是将硅片的两面涂上黑胶在硝酸和复氨酸组成的溶液中腐蚀30s左右取出，再将黑胶清除。挤压法是用大小与硅片相同，略带弹性的耐酸橡胶或塑料与硅片相间整齐地隔开,并且施加一定的压力，以阻止腐蚀液渗入缝隙，放入腐蚀液中不到lmin，取出洗净，即可将硅片周边的扩散层去除。

　　目前的工业化生产多用等离子干法腐蚀，在辉光放电情况下通过氟和氧交替对硅片作用，可去除含有扩散层的周边。其主要工作原理是:气体中总存在微量的自由电子,在外电场的作用下,这些电子便加速运动，当电子在外电场中获得足够的能量后与气体分子发生碰撞，使得气体分子电离而发射出二次电子;二次电子又进一步与气体分子发生碰撞电离，产生更多的电子与离子;由于存在电子与离子相复合的逆过程，电离与复合过程终必将达到一种平衡状态,出现稳定的辉光放电现象，形成稳定的等离子体。在放电过程中,除了形成电子与离子外，还可产生激发态的分子原子及各种原子团，称为游离基。具有高度化学活性的游离基与被蚀材料的表面发生化学反应，形成挥发性的物质，使材料不断被腐蚀。

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